ファブの現場では、フォトレジストを焼成する際の熱的なばらつきが、歩留まりを悪化させる要因となります。ソフトベイクが均一でないと、線幅にばらつきが生じます。ハードベイクも不安定だと、スクラムや残留物が発生します。そうした問題を解決するために、当社はセラミック製の赤外線ヒーターパネルを開発しました。これにより、設定温度に正確に到達し、オーバーシュートや遅れもありません。
内部で重要なのは何か このヒーターは対流ではなく、放射によって加熱されます。セラミックで覆われた短波長の赤外線素子を使用しているため、2秒未満で設定温度に到達し、ウェーハ全面の温度ばらつきは±0.1℃程度です。バッチ間の再現性は±0.5℃で、安定した温度管理が可能です。表面は粒子が出ないように設計されており、クリーンルームのクラス1～100に適しています。また、強力な洗浄剤にも耐えられ、ガス放出もありません。電気的にも、半導体装置の基準を満たしており、EMIが少なく、絶縁性能も優れています。
リソグラフィーにおける重要性 リソグラフィーやフォトレジスト処理において、この精度は、より厳格な寸法管理や再作業の削減につながります。ソフトベイクのプロファイルが安定しているため、溶剤が混入することもありません。ハードベイクによって接着力が安定し、端のデブリや残留物が減少します。迅速な応答性により、ベイク間の待機時間が短縮され、エネルギー消費も抑えられます。このパネルは24時間365日稼働可能で、メンテナンスもほとんど必要ありません。フィラメントの焼損やホットスポットもないため、計画外の停止時間もありません。輸入品のヒーターに代わるものとして、既存の装置に簡単に取り付けられ、プロセスの品質を維持しつつ、スペア部品のコストを削減できます。
実用上の注意点 設置時には、装置の形状やコネクタタイプに合わせる必要があります。位置合わせの許容範囲を確認し、均一性を保つことが重要です。安定した電圧環境下で最も良い性能を発揮します。電圧の大きな変動は設定温度の精度に影響を与えるため、局所的な電圧調整器を使用するのが賢明です。短時間のテストを行い、ウェーハ全体の温度分布を把握し、最適な条件を設定しましょう。