製造現場において、フォトレジストの焼成処理は「一時停止」というわけではありません。それは厳格な制約事項です。もしホットプレートの位置がずれると、CDの精度も低下してしまいます。均一性が保てなければ、ウェーハ全体の歩留まりが悪くなってしまいます。MEMSの場合、熱管理は非常に重要であり、温度の誤差が長時間続くことはありません。
技術的に重要な点
私たちは、MEMSの熱管理を正確に行うためにこの赤外線ヒーターを開発しました。高速応答のために短波長のIRを使用し、安定した出力のために石英・ハロゲン要素を採用しています。また、ウェーハ全体の均一性を±0.1℃以内に保つために、ループ制御方式が採用されています。ホットゾーンはクラス1～100の清浄室環境で動作するように設計されており、粒子の発生やガスの放出を防ぐために適切な材料や仕上げが施されています。重要なのは再現性です。毎回の焼成処理、各ロット、毎日にわたって一貫した結果が得られる必要があります。
なぜこれがMEMSの工程に適しているか
MEMSの場合、ソフトベイクとハードベイクをごく狭い範囲で行います。このヒーターは、何度繰り返しても同じ温度プロファイルを実現するため、直線的な形状のものでも非直線的な形状のものでも、一貫した特性が得られます。迅速な温度上昇により、熱処理時間が短縮され、ウェーハ全体の均一性も維持されます。また、全体を加熱するのではなく、対象エリアのみを加熱するため、エネルギー消費も削減されます。信頼性としては、稼働時間が長くなり、計画外の停止がないため、メンテナンスも予測可能になります。
準備しておくべきこと
設置にあたっては、装置のインターフェースに合わせて、電圧や冷却システムを確認する必要があります。通常は240Vで、専用の空気または水冷システムが必要です。このヒーターは、標準的なリソグラフィーやトラック設定に統合可能ですが、光路が塞がれないように注意が必要です。障害があると、熱分布が変わってしまいます。**清浄室のスペースも早めに確保しておくべきです。**狭いスペースでは、適切なサイズや保守用のアクセス路が必要になります。これをしっかりと整えておけば、工程もスムーズに進みます。その後は、データシートが必要な情報を提供してくれます。