Di bilik pengeluaran, perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pemanasan bahan photoresist sudah cukup untuk menyebabkan perubahan pada dimensi kritikal komponen tersebut, dalam skala nanometer. Jika berlaku masalah pada satu batch produk, keseluruhan pengeluaran tersebut perlu dibuang. Kami telah merancang sistem pemanas industri antarabangsa kami berdasarkan realiti ini: kawalan suhu yang tepat, sehingga suhu di seluruh permukaan wafer dapat dikawal dalam lingkungan ±0.1°C, hari demi hari, sama ada semasa proses pemanasan biasa, pemanasan intensif, atau selepas proses pendedahan cahaya.
Apa yang penting dari segi teknikal
Inti daripada sistem ini ialah pemanas yang sesuai digunakan di bilik bersih, dan direka khusus untuk keperluan pemanasan bahan semikonduktor. Pilihan pemanas jenis halogen dan NIR membolehkan haba disalurkan terus ke bahan photoresist dan substrat, sekaligus mempercepatkan proses pemanasan tanpa menjejaskan ketepatan hasilnya. Suhu kekal stabil di seluruh permukaan wafer, sekaligus memastikan kawalan lebar jalur pengeluaran tetap berada dalam julat yang ditetapkan.
Penggunaan bahan yang tidak menghasilkan zarah secara automatik, serta reka bentuk yang tertutup sepenuhnya, memastikan sistem ini sesuai digunakan di persekitaran kelas 1–100. Unit-unit ini boleh beroperasi 24/7 tanpa gangguan, dan jarak masa servis yang diperlukan juga lebih lama. Ini bermakna keperluan untuk alat ganti dan tenaga kerja penyelenggaraan menjadi lebih sedikit.
Mengapa ia efektif dalam proses litografi
Dalam proses litografi, konsistensi suhu semasa proses pemanasan akan membantu mengurangkan jumlah produk yang perlu diperbaiki, sekaligus meningkatkan kadar kejayaan pengeluaran pada percubaan pertama. Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana pemanas dapat mencapai suhu yang ditetapkan dengan cepat, tanpa melebihi had yang ditetapkan. Ini seterusnya mengurangkan kos pemanasan bagi setiap wafer.
Sistem ini juga boleh digabungkan dengan peralatan lain yang sedia ada, tanpa perlu risiko integrasi tambahan. Selain itu, kerana platform pemanasan yang sama boleh digunakan di beberapa stesen pemanasan, strategi pengurusan alat ganti menjadi lebih mudah.
Apa yang perlu diperhatikan
Penyesuaian pemanas dengan geometri bilik dan aliran udara bukanlah perkara yang boleh diabaikan. Walaupun perbezaan yang kecil pun boleh menyebabkan masalah. Adalah penting untuk melakukan ujian awal untuk menyesuaikan parameter PID dan sistem pelindung agar sesuai dengan beban kerja dan aliran udara di bilik bersih tersebut.
Selain itu, pastikan voltan keluaran dan jenis penyambung sesuai dengan spesifikasi peralatan anda. Kesilapan dalam hal ini akan menyebabkan kerja pembetulan yang tidak dirancang.