<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Phơi Khô on Infrared Quartz Heating Systems</title>
		<link>http://ir-quartz-heater.com/vi/tags/ph%C6%A1i-kh%C3%B4/</link>
		<description>Recent content in Phơi Khô on Infrared Quartz Heating Systems</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>vi</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 01 Jun 2026 00:03:23 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-quartz-heater.com/vi/tags/ph%C6%A1i-kh%C3%B4/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Bộ phận sấy wafer bằng đèn hồng ngoại</title>
				<link>http://ir-quartz-heater.com/vi/posts/wafer-drying-infrared-heater/</link>
				<pubDate>Mon, 01 Jun 2026 00:03:23 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-quartz-heater.com/vi/posts/wafer-drying-infrared-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-quartz-heater.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Bộ phận sấy wafer bằng đèn hồng ngoại&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Nắp máy sấy quay hạ xuống, và wafer được đặt vào một không gian kiểm soát, nơi lượng nước xả cuối cùng phải được làm sạch hoàn toàn—không vết đốm, không vết bẩn, không hạt lơ lửng. Trên dây chuyền 300 mm, khoảng nhiệt &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;trong&lt;/a&gt; quá trình sấy đủ chặt để đo bằng mili độ đơn lẻ. Một sự lệch vài phần mười độ có thể làm mỏng lớp photoresist ở mép, làm dịch chuyển sai lệch kích thước (CD bias), hoặc để lại dấu vết nước biến thành lỗi sau khi in mạch quang.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
