หลอดไฟอินฟราเรดสำหรับการประมวลผลแผ่นกระจก

Sat, 20 Jun 2026 02:24:06 +0800

ในกระบวนการผลิตแผ่นซิลิคอน แผ่นแก้วนั้นมีลักษณะที่แตกต่างจากซิลิคอนโดยสิ้นเชิง แผ่นแก้วมีความโปร่งใส มีมวลความร้อนน้อยกว่า และมีความไวต่อความแตกต่างของอุณหภูมิสูงมาก หากบริเวณที่มีอุณหภูมิสูงเปลี่ยนแปลงไปเพียงเล็กน้อย โครงสร้างของสารฟอโตเรสิสต์ก็จะเปลี่ยนไป ส่งผลให้การควบคุมค่า CD ไม่แม่นยำ และทำให้ปริมาณผลิตภัณฑ์ที่ได้ลดลงก่อนที่จะสามารถตรวจสอบคุณภาพได้เลย นี่จึงเป็นเหตุผลที่ต้องใช้หลอดไฟอินฟราเรดที่ออกแบบมาสำหรับการประมวลผลแผ่นแก้วโดยเฉพาะ เพราะหลอดไฟเหล่านี้จะส่งความร้อนไปยังบริเวณที่ต้องการเท่านั้น

สิ่งที่สำคัญในการทำงานของระบบ
เราออกแบบระบบนี้โดยใช้หลอดไฟอินฟราเรดแบบคลื่นสั้นที่ถูกปรับให้เหมาะสมกับการดูดซับความร้อนของแผ่นแก้ว ทำให้เกิดการให้ความร้อนอย่างรวดเร็ว โดยมีเวลาตอบสนองน้อยกว่าหนึ่งวินาที ความสม่ำเสมอของอุณหภูมิบนพื้นผิวแผ่นแก้วอยู่ที่ ±0.1°C ซึ่งช่วยให้การให้ความร้อนมีความสม่ำเสมอ และช่วยให้สารฟอโตเรสิสต์ทำงานได้อย่างมีประสิทธิภาพ ระบบนี้สามารถทำงานได้ในห้องที่มีมาตรฐานความสะอาดระดับ Class 1–100 โดยไม่มีการสร้างอนุภาคใดๆ ขึ้นมาเลย และยังช่วยให้ได้ผลลัพธ์ที่สม่ำเสมอตลอดเวลา ปริมาณผลิตภัณฑ์ที่ได้จะมีความสม่ำเสมอตลอดเวลามากกว่า 5,000 ชั่วโมง โดยมีการลดลงน้อยกว่า 5% และโครงสร้างความร้อนก็จะยังคงสม่ำเสมอในแต่ละชุดผลิตภัณฑ์

ในกระบวนการลิโธกราฟี อุณหภูมิจำเป็นต้องมีความสม่ำเสมอ ไม่ใช่เรื่องของการคาดเดา หลอดไฟอินฟราเรดของเราช่วยลดการสูญเสียพลังงานโดยการให้ความร้อนเฉพาะแผ่นแก้วและบริเวณโดยรอบเท่านั้น ทำให้การใช้พลังงานลดลง และช่วยให้กระบวนการมีความแม่นยำมากขึ้น ส่งผลให้ความสม่ำเสมอของค่า CD ดีขึ้น มีการปรับแก้น้อยลง และมีของเสียจากการให้ความร้อนมากเกินไปหรือน้อยเกินไปน้อยลง นอกจากนี้ การเพิ่มอุณหภูมิอย่างรวดเร็วยังช่วยลดเวลาในการประมวลผลอีกด้วย และความร้อนที่สะอาดและแห้งช่วยป้องกันไม่ให้เกิดข้อบกพร่องบนพื้นผิวแผ่นแก้วในขั้นตอนการบรรจุและตรวจสอบคุณภาพ

นี่คือข้อมูลเชิงปฏิบัติบางประการ การติดตั้งระบบนี้จำเป็นต้องมีการปรับจูนแสงอย่างแม่นยำ และต้องมีแหล่งจ่ายไฟที่มีการกรองสัญญาณรบกวน เพื่อไม่ให้ส่งผลกระทบต่อขั้นตอนอื่นๆ หากต้องการนำระบบนี้มาใช้ร่วมกับระบบเดิม จำเป็นต้องมีการออกแบบชิ้นส่วนที่เหมาะสม และมีเวลาในการปรับแต่งเพียงเล็กน้อยเท่านั้น หลังจากที่หลอดไฟอุ่นขึ้นแล้ว ควรให้เวลาสักครู่เพื่อให้อุณหภูมิอยู่ที่ ±0.1°C หลังจากนั้นกระบวนการก็จะมีความสม่ำเสมอ นอกจากนี้ ยังจำเป็นต้องปรับสเปกตรัมของหลอดไฟให้เหมาะสมกับสารฟอโตเรสิสต์และวัสดุแผ่นแก้วที่ใช้ด้วย เพราะไม่สามารถใช้หลอดไฟแบบเดียวกันกับทุกกรณีได้ และหากไม่ปรับสเปกตรัมให้เหมาะสม ก็อาจทำให้เกิดข้อบกพร่องได้ง่าย

วิฟเฟอร์ on Infrared Quartz Heating Systems

หลอดไฟอินฟราเรดสำหรับการประมวลผลแผ่นกระจก