Pengeringan on Infrared Quartz Heating Systems

Pengauditan tenaga untuk proses pengeringan di kilang.

Fri, 24 Jul 2026 09:41:11 +0800

Hentikan pembaziran tenaga dalam proses pengeringan wafer anda

Sejujurnya, membuang-buang tenaga elektrik sama saja dengan membazir wang. Kebanyakan kilang menggunakan reflektor aluminium biasa, tetapi masalahnya ialah reflektor tersebut menyebarkan tenaga inframerah ke merata-rata tempat. Tenaga tersebut tidak sampai ke permukaan wafer, sebaliknya masuk ke dalam badan mesin. Ini merupakan cara yang tidak efisien. Itulah sebabnya kami beralih kepada reflektor yang dilapisi emas.

Mengapa emas?
Bukan kerana kesan estetika semata-mata. Sebenarnya, emas mampu menangkap tenaga inframerah dengan lebih baik berbanding aluminium. Sementara aluminium membiarkan sebahagian tenaga terlepas, emas pula memantulkan foton kembali ke sasaran. Dengan cara ini, tenaga panas dapat disalurkan secara terfokus ke permukaan wafer, tanpa perlu meningkatkan kuasa penjanaan tenaga.

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Thu, 23 Jul 2026 09:41:55 +0800

Mengeringkan Wafer MEMS dengan Menggunakan Sinar Infra Merah
Jika anda sedang membina fasiliti pembuatan canggih, anda pasti tahu bahawa segala proses perlu dikendalikan berdasarkan data. Namun, apabila melibatkan pengeringan wafer sensor MEMS, perkakasan yang digunakan juga sama pentingnya seperti perisian yang digunakan. Itulah sebabnya kami meninggalkan kaedah pengeringan menggunakan ketuhar konvensional lama, dan beralih kepada sistem inframerah gelombang pendek.

Cara ini lebih cepat. Selain itu, ia juga dapat mengelakkan bahan kimia daripada merosakkan wafer tersebut.

Pemanas inframerah pengering wafer

Mon, 01 Jun 2026 00:03:23 +0800

Penutup pengering putaran turun, dan wafer menetap dalam ruang terkawal di mana baki terakhir air bilasan mesti dibersihkan—tiada tompok, tiada kesan, tiada zarah. Pada barisan 300 mm, tetingkap suhu semasa pengeringan cukup ketat sehingga boleh diukur dalam millidegree satu digit. Perubahan beberapa persepuluh darjah boleh menipiskan fotoresist di tepi, menggeser bias CD, atau meninggalkan tanda air yang menjadi kecacatan selepas litografi.

Pemanas inframerah pengering wafer bukan sekadar sumber haba. Ia adalah elemen proses terma yang mesti bertindak seperti lanjutan ruang—boleh diulang, bersih, dan boleh dijangka. Dalam pemprosesan fotoresist, soft bake dan hard bake menetapkan penyingkiran pelarut, tekanan filem, dan lekatan. Dalam pengeringan selepas pembersihan, keseragaman suhu mengawal kinetik pengewapan air DI dan menghalang pengendapan semula. Jika pemanas gagal memegang prestasi, wafer akan menunjukkan kesannya.