<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Keselamatan on Infrared Quartz Heating Systems</title>
		<link>http://ir-quartz-heater.com/ms/tags/keselamatan/</link>
		<description>Recent content in Keselamatan on Infrared Quartz Heating Systems</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 20 Jul 2026 09:17:20 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-quartz-heater.com/ms/tags/keselamatan/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Jarak keselamatan untuk pemanasan wafer</title>
				<link>http://ir-quartz-heater.com/ms/posts/safety-distance-for-wafer-heating/</link>
				<pubDate>Mon, 20 Jul 2026 09:17:20 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-quartz-heater.com/ms/posts/safety-distance-for-wafer-heating/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-quartz-heater.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Jarak keselamatan untuk pemanasan wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Pemanasan Inframerah Berbanding Udara Panas: Yang mana satu yang lebih sesuai untuk proses pemprosesan wafer?&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Jika anda masih menggunakan kaedah pemanasan udara panas untuk proses pemprosesan semikonduktor, sebenarnya anda hanya membuang masa sahaja. Prosesnya berlaku secara perlahan – udara dipanaskan, kemudian udara tersebut memanaskan ruang di mana wafer berada. Akhirnya, wafer akan menjadi panas setelah beberapa waktu. Ini merupakan reaksi berantai yang perlahan. Sebaliknya, pemanasan inframerah mengelakkan keperluan untuk menggunakan udara sebagai pengantara. Ia menggunakan radiasi elektromagnetik untuk menghantar tenaga terus ke permukaan wafer. Tiada lagi masa tunggu yang diperlukan.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
