Pembuat pemanas industri antarabangsa

Thu, 25 Jun 2026 01:39:25 +0800

Di bilik pengeluaran, perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pemanasan bahan photoresist sudah cukup untuk menyebabkan perubahan pada dimensi kritikal komponen tersebut, dalam skala nanometer. Jika berlaku masalah pada satu batch produk, keseluruhan pengeluaran tersebut perlu dibuang. Kami telah merancang sistem pemanas industri antarabangsa kami berdasarkan realiti ini: kawalan suhu yang tepat, sehingga suhu di seluruh permukaan wafer dapat dikawal dalam lingkungan ±0.1°C, hari demi hari, sama ada semasa proses pemanasan biasa, pemanasan intensif, atau selepas proses pendedahan cahaya.

Sistem fabrikasi inframerah industri khas

Mon, 01 Jun 2026 18:01:04 +0800

On the fab floor, you can’t afford drift. A 0.3°C shift in the photoresist bake and your critical dimension budget is gone. Yield slips before the etch chamber even sees the wafer. We built our custom industrial infrared fab system to keep that from happening—by making thermal control follow the process, not the other way around.

Apa yang penting secara teknikal adalah mudah: padankan profil terma dengan keperluan litografi dan photoresist. Kami melakukannya dengan pemancar NIR, elemen kuarza tindak balas pantas, dan kawalan gelung tertutup yang mengekalkan keseragaman peringkat wafer pada ±0.1°C sepanjang proses soft bake dan hard bake. Keserasian bilik bersih bukan perkara sampingan—operasi Kelas 1–100, tiada penghasilan zarah, bahan berkadar outgassing rendah, dan optik serta pemasangan yang tertutup rapat.

Industri on Infrared Quartz Heating Systems

Pembuat pemanas industri antarabangsa

Sistem fabrikasi inframerah industri khas