Sistema industriale personalizzato a infrarossi per fabbrica

Mon, 01 Jun 2026 18:01:04 +0800

On the fab floor, non ci si può permettere deragliamenti. Uno scostamento di 0,3°C nella cottura del photoresist e il budget della dimensione critica viene compromesso. La resa scende prima ancora che la camera di incisione veda il wafer. Abbiamo sviluppato il nostro sistema industriale a infrarossi personalizzato per evitare che ciò accada, facendo in modo che il controllo termico segua il processo e non viceversa.

Ciò che conta tecnicamente è semplice: abbinare il profilo termico alle esigenze di litografia e photoresist. Lo realizziamo con emettitori NIR, elementi in quarzo a risposta rapida e controllo in anello chiuso che mantiene l’uniformità a livello wafer a ±0,1°C durante soft bake e hard bake. La compatibilità con la cleanroom non è un ripensamento: operatività Class 1–100, generazione zero di particelle, materiali a basso outgassing e ottiche e supporti sigillati.

Sistema on Infrared Quartz Heating Systems

Sistema industriale personalizzato a infrarossi per fabbrica