Fabbrica internazionale di termoattrezzature industriali

Thu, 25 Jun 2026 01:39:25 +0800

Nelle linee di produzione, una variazione di temperatura di 0,5°C durante il processo di essiccazione del fotoresist è sufficiente per far variare le dimensioni critiche dei componenti prodotti di pochi nanometri. Un lotto difettoso significa che bisogna abbandonare l’intera produzione. Abbiamo progettato i nostri sistemi di riscaldamento industriali tenendo conto di questa realtà: un controllo termico preciso che mantiene l’uniformità della temperatura sul wafer entro ±0,1°C, giorno dopo giorno, sia durante i processi di essiccazione semplice che complessa, sia dopo l’esposizione al fascio luminoso.

Commercio on Infrared Quartz Heating Systems

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