Pemanas TSV (Through Silicon Via)

Wed, 24 Jun 2026 01:17:22 +0800

Di lantai produksi, perubahan suhu selama proses pengeringan wafer atau pemanasan bahan photoresist bukanlah masalah sepele. Hal ini justru menyebabkan munculnya cacat-cacat yang tidak terlihat hingga saat dilakukan tes listrik. Pada saat itu, Anda harus menghabiskan waktu untuk memperbaiki produk yang bermasalah. Pemanas TSV dirancang untuk mencegah perubahan suhu tersebut, sehingga setiap proses pemanasan dapat dikendalikan dengan baik.

Apa yang penting dalam desain pemanas TSV? Kami merancang pemanas TSV sedemikian rupa agar suhu di permukaan wafer tetap stabil, pada kisaran ±0,1°C. Hal ini penting karena proses litografi dan pengemasan tidak dapat mentolerir perubahan suhu yang besar di permukaan wafer. Komponen pemanas dirancang sesuai dengan geometri ruang pemrosesan dan sistem pasokan daya, sehingga respons suhu tetap stabil—tanpa adanya titik panas atau kejutan lainnya. Kompatibilitas dengan lingkungan cleanroom kelas 1–100 dicapai melalui penggunaan bahan-bahan yang minim emisi gas dan struktur yang memungkinkan kontrol partikel yang baik. Dengan demikian, Anda tidak perlu menghabiskan waktu untuk menangani masalah yang berasal dari pemanas itu sendiri. Tidak adanya generasi partikel sama sekali merupakan syarat penting dalam desain pemanas ini, dan hal ini telah diverifikasi selama proses produksi.

Via) on Infrared Quartz Heating Systems

Pemanas TSV (Through Silicon Via)