http://ir-quartz-heater.com/id/tags/kaca/ Recent content in Kaca on Infrared Quartz Heating Systems Hugo id Tue, 21 Jul 2026 02:16:42 +0800 http://ir-quartz-heater.com/id/posts/quartz-glass-shield-for-fab-lamp/ Tue, 21 Jul 2026 02:16:42 +0800 http://ir-quartz-heater.com/id/posts/quartz-glass-shield-for-fab-lamp/ <p><img src="http://ir-quartz-heater.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png" alt="Perisai kaca kuarsa untuk lampu fabrikasi"></p> <p><strong>Mempertahankan keamanan lampu IR saat kondisi menjadi tidak stabil</strong><br> Sejujurnya, mengoperasikan lampu inframerah berkekuatan tinggi di sekitar uap mudah terbakar dan bahan kimia yang bersifat eksplosif merupakan hal yang sangat berisiko. Satu percikan api atau kebocoran saja sudah cukup untuk menimbulkan masalah besar.</p> <p>Kami telah menemukan cara untuk mengurangi risiko tersebut. Caranya adalah dengan memisahkan elemen pemanas dari udara di sekitarnya. Kami melakukannya dengan menggunakan pelindung berbahan kuarsa khusus serta sistem pengemasan yang rapat.</p> http://ir-quartz-heater.com/id/posts/glass-wafer-processing-infrared-lamp/ Sat, 20 Jun 2026 02:24:06 +0800 http://ir-quartz-heater.com/id/posts/glass-wafer-processing-infrared-lamp/ <p><img src="http://ir-quartz-heater.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png" alt="Lampu inframerah untuk pengolahan wafer kaca"></p> <p>Dalam proses pembuatan wafer kaca, bahan ini berbeda dengan silikon. Wafer kaca bersifat transparan, memiliki massa termal yang lebih rendah, dan sangat sensitif terhadap perubahan suhu. Jika zona panas bergeser sedikit saja, profil fotoresist akan berubah, sehingga kontrol ketelitian ukuran wafer menjadi tidak akurat. Itulah mengapa digunakan lampu inframerah khusus untuk proses pengolahan kaca—lampu ini memancarkan panas tepat di tempat yang diperlukan, dan tidak ke tempat lain.</p> <p><strong>Apa yang penting dalam sistem ini?</strong> Kami merancang sistem ini menggunakan emitter gelombang pendek yang disesuaikan dengan kemampuan penyerapan cahaya oleh kaca. Dengan demikian, pemanasan dapat dilakukan secara cepat, dengan respons dalam hitungan detik. Di seluruh permukaan wafer, tingkat keseragaman suhu tetap pada kisaran ±0,1°C, sehingga proses pemanasan berjalan secara stabil. Alat ini dapat digunakan di ruang kerja berkualitas tinggi (Class 1–100), dengan tingkat polusi partikel yang sangat rendah. Hasilnya pun tetap stabil selama lebih dari 5.000 jam, dengan penurunan kualitas kurang dari 5%. Profil termalnya juga tetap konsisten dari satu batch ke batch berikutnya.</p>