תת אדום on Infrared Quartz Heating Systems

מנורת חימום אינפרא אדום בצינור כפול

Sun, 07 Jun 2026 01:34:09 +0800

רצפת הליטוגרפיה

סטייה של 0.5°C בתהליך אפיית הפוטורזיסט היא טעות שמובילה לפסילת כל מיכל לפני שרואים את ההשפעה. דרושה חום שמגיע בדיוק לאזור שנקבע בכרטיס התהליך – בכל פעם – ללא הוספת חלקיקים או יצירת שונות בתהליך.

מה חשוב, מבחינה טכנית

בנינו את מנורת האינפרא אדום בעלת הצינורות הכפולים סביב אלמנטים קצרי גל NIR ורכיבי קוורץ שנבחרו לחימום מהיר וכיווני עם אינרציה תרמית מינימלית. המפרט המרכזי הוא אחידות טמפרטורה באזור היעד: ±0.1°C, נמדדת ומנוהלת בלולאת בקרה סגורה.

מערכת ייצור תעשייתית אינפרא אדום מותאמת

Mon, 01 Jun 2026 18:01:04 +0800

On the fab floor, you can’t afford drift. A 0.3°C shift in the photoresist bake and your critical dimension budget is gone. Yield slips before the etch chamber even sees the wafer. We built our custom industrial infrared fab system to keep that from happening—by making thermal control follow the process, not the other way around.

מהקומה הייצור אי אפשר להרשות סטיות. שינוי של 0.3°C באפיית הפוטורזיסט והמגבלת הממדים הקריטיים נעלמת. התפוקה יורדת עוד לפני שהחדר חקיקה מגיע למשטח. בנינו את מערכת הייצור התעשייתית באינפרא-אדום בהתאמה אישית כדי למנוע זאת — על ידי כך שהשליטה התרמית תתאים לתהליך, ולא להיפך.

גוף חימום אינפרא אדום לייבוש וופרים

Mon, 01 Jun 2026 00:03:24 +0800

מכסה מייבש הספין נופל, והוופרה מתמקמת במרחב מבוקר שבו יש להסיר את שאריות מי ההדחה באופן נקי – ללא כתמים, ללא סימנים, ללא חלקיקים. בקו של 300 mm, טווח הטמפרטורה במהלך הייבוש כל כך מדויק שנמדד במילידירגות בודדות. סטייה של כמה עשיריות מעלה או מטה עלולה לדלל את הפוטורזיסט בקצה, להזיז את ה-CD bias או להשאיר סימן מים שמסבך את התהליך בהמשך הליתוגרפיה.

מחממי אינפרא-אדום לייבוש וופרות אינם רק מקורות חום. הם רכיבי תהליך תרמיים שחייבים לפעול כהמשך של התא – מדויקים, נקיים וניתנים לחיזוי. בעיבוד פוטורזיסט, בייק רך ובייק קשה מגדירים את הסרת הממס, מתח הסרט וההיצמדות. בייבוש לאחר ניקוי, אחידות הטמפרטורה שולטת בקינטיקה של אידוי מים DI ומונעת המשקעות חוזרות. אם המחמם לא שומר על יציבות, הוופרה תראה זאת.