http://ir-quartz-heater.com/cs/tags/pl%C3%A1tek/ Recent content in Plátek on Infrared Quartz Heating Systems Hugo cs Mon, 01 Jun 2026 00:03:24 +0800 http://ir-quartz-heater.com/cs/posts/wafer-drying-infrared-heater/ Mon, 01 Jun 2026 00:03:24 +0800 http://ir-quartz-heater.com/cs/posts/wafer-drying-infrared-heater/ <p><img src="http://ir-quartz-heater.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="Infračervený ohřívač pro sušení waferů"></p> <p>Víko odstředivé sušičky se spustí a wafer se usadí do kontrolovaného prostoru, kde musí poslední kapky oplachové vody zcela zmizet – žádné skvrny, žádné šmouhy, žádné částice. Na lince s průměrem 300 mm je teplotní okno během sušení natolik úzké, že se měří v řádu jednotek milidegreů. Posun o několik desetinek stupně může ztenčit fotoresist na okraji, posunout CD bias nebo zanechat vodní značku, která se po litografii projeví jako defekt.<br> Infračervené topné těleso sušičky waferů není jen zdrojem tepla. Je to termální procesní prvek, který musí fungovat jako prodloužení komory – opakovatelné, čisté a předvídatelné. Při zpracování fotoresistu určuje soft bake a hard bake odstranění rozpouštědel, napětí ve filmu a adhezi. Při sušení po čištění řídí teplotní uniformita kinetiku odpařování DI vody a zabraňuje opětovnému usazování. Pokud topné těleso neplní svou funkci, wafer to ukáže.</p>