Dalam proses pembuatan wafer kaca, bahan ini berbeda dengan silikon. Wafer kaca bersifat transparan, memiliki massa termal yang lebih rendah, dan sangat sensitif terhadap perubahan suhu. Jika zona panas bergeser sedikit saja, profil fotoresist akan berubah, sehingga kontrol ketelitian ukuran wafer menjadi tidak akurat. Itulah mengapa digunakan lampu inframerah khusus untuk proses pengolahan kaca—lampu ini memancarkan panas tepat di tempat yang diperlukan, dan tidak ke tempat lain.
Apa yang penting dalam sistem ini? Kami merancang sistem ini menggunakan emitter gelombang pendek yang disesuaikan dengan kemampuan penyerapan cahaya oleh kaca. Dengan demikian, pemanasan dapat dilakukan secara cepat, dengan respons dalam hitungan detik. Di seluruh permukaan wafer, tingkat keseragaman suhu tetap pada kisaran ±0,1°C, sehingga proses pemanasan berjalan secara stabil. Alat ini dapat digunakan di ruang kerja berkualitas tinggi (Class 1–100), dengan tingkat polusi partikel yang sangat rendah. Hasilnya pun tetap stabil selama lebih dari 5.000 jam, dengan penurunan kualitas kurang dari 5%. Profil termalnya juga tetap konsisten dari satu batch ke batch berikutnya.
Dalam proses litografi, suhu harus tetap konstan, bukan sesuatu yang bisa ditebak sembarangan. Lampu inframerah kami membantu mengurangi pemborosan energi, karena hanya bagian wafer yang dipanaskan. Dengan demikian, proses pemanasan berjalan lebih efisien. Hal ini menghasilkan tingkat keseragaman ukuran wafer yang lebih baik, serta mengurangi jumlah produk yang rusak akibat pemanasan yang berlebihan atau tidak cukup. Waktu proses pun berkurang, dan permukaan wafer tetap bersih sehingga tidak ada cacat yang muncul saat proses pengemasan dan inspeksi.
Berikut beberapa hal yang perlu diperhatikan saat pemasangan alat ini. Pemasangan membutuhkan penyesuaian optik yang tepat, serta pasokan daya yang stabil agar tidak ada gangguan EMI terhadap komponen lainnya. Jika alat ini akan digabungkan dengan sistem lama, diperlukan bracket khusus dan waktu penyesuaian yang singkat. Setelah lampu mencapai suhu operasionalnya, biarkanlah alat tersebut berada dalam kondisi stabil selama beberapa saat agar suhu tetap pada kisaran ±0,1°C. Spektrum cahaya yang digunakan juga harus disesuaikan dengan jenis fotoresist dan substrat kaca yang digunakan. Ini bukanlah proses pemanasan yang bisa dilakukan secara seragam untuk semua kasus; jika tidak disesuaikan dengan benar, hasilnya akan buruk.